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昆山禾創(chuàng)超聲儀器有限公司

超聲波去蠟清洗技術(shù)研究_昆山禾創(chuàng)淺析

2022-06-13 類型:新聞資訊
超聲波清洗技術(shù)是半導(dǎo)體材料制備的主要清洗方法,極大地提高了半導(dǎo)體材料制備的工作效率和清洗效果。昆山禾創(chuàng)闡述了超聲波清洗作用原理。通過調(diào)節(jié)超聲機(jī)功率密度、頻率,進(jìn)行晶片去蠟清洗實(shí)驗(yàn),驗(yàn)證、分析了超聲清洗過程中超聲機(jī)功率密度、頻率對(duì)晶片去蠟清洗的影響。


超聲波清洗速度快、質(zhì)量好,并能大大降低環(huán)境污染,因此被廣泛應(yīng)用于工業(yè)領(lǐng)域。電子行業(yè)是超聲波清洗應(yīng)用最早、最為普及的行業(yè)。電子零件和電子元器件的基體清洗都需要采用超聲波清洗。同時(shí),該項(xiàng)技術(shù)還被晶片去蠟工藝采用,并發(fā)展成為主流去蠟工藝,極大的提高了晶片去蠟工藝的工作效率。

超聲波清洗技術(shù)主要通過超聲波的空化、加速度和直進(jìn)流作用來達(dá)到晶片清洗的目的,必須根據(jù)實(shí)際清洗需求,選擇合適的超聲波頻率和功率密度完成晶片的清洗。



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